Фотоэлектрические химикаты высокой чистоты

* Сверхчистый электронный класс для очистки чипов и активации металлов
* Ультранизкое содержание железа (<0.1ppm) ensures clean electroplating
* Синергетический эффект HCl-Cl⁻ быстро растворяет оксиды металлов
* Стабильный pH для приготовления стандартных лабораторных растворов

* Высокочистый ионный мембранный процесс соответствует требованиям производства оксида алюминия
* Низкое содержание хлоридов предотвращает помехи при электролизе
* Упаковка оптом (25-200 кг) обеспечивает непрерывность производства

Сверхчистый электронный класс для очистки полупроводниковых пластин и удаления фоторезиста
Высокая окислительная способность для эффективного удаления органических остатков
Низкое содержание ионов металлов предотвращает загрязнение чувствительных компонентов
Длительный срок годности (2 года) снижает частоту закупок
Экологичное разложение на воду и кислород

* Высококонцентрированная формула повышает эффективность травления стекла и обработки металлических поверхностей.
* Точная хелатизация кремния и алюминия для очистки кварца электронного класса
* Низкое содержание примесей минимизирует риск коррозии оборудования из нержавеющей стали.